碳方程公司產品

TFC-10800D

TFC-10800D，微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）設備是最先進的 CVD系統。針對用戶的具體要求設計和研制的一臺多用途、高穩定中等壓強微波等離子體（MPCVD）綜合設備。它具有智能化生長、性能先進、功能完善、結構合理，使用方便、安全可靠、外形美觀等特點，特別適合應用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領域。 了解詳情

TFC-10800C

TFC-10800C，微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）設備是最先進的 CVD系統。針對用戶的具體要求設計和研制的一臺多用途、高穩定中等壓強微波等離子體（MPCVD）綜合設備。它具有智能化生長、性能先進、功能完善、結構合理，使用方便、安全可靠、外形美觀等特點，特別適合應用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領域。 了解詳情

TFC-6500B

TFC-6500B，微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）設備是最先進的 CVD 系統。針對用戶的具體要求設計和研制的一臺多用途、高穩定中等壓強微 波等離子體（MPCVD）綜合設備。它具有智能化生長、性能先進、功能完 善、結構合理，使用方便、安全可靠、外形美觀等特點，特別適合應用于 單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領域。 了解詳情

TFC-6650C

TFC-6650C，微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）設備是最先進的 CVD 系統。針對用戶的具體要求設計和研制的一臺多用途、高穩定中等壓強微波等離子體綜合設備。它具有智能化生長、性能先進、功能完 善、結構合理，使用方便、安全可靠、外形美觀等特點，特別適合應用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領域。 了解詳情